| Wybrane publikacje |
|---|
| 1 | Artykuł 2022
Marcin Łapiński, Robert Kozioł, Agnieszka Zawadzka Wojciech Sadowski, Barbara Kościelska,| Thermal dewetting as a method of surface modification of the gold thin films for surface plasmon resonance based sensor applications. Materials Today Communications. 2022, vol. 32, art. 104066, s. 1-5. ISSN: 2352-4928 | | Zasoby:DOISFX |    |
|
| 2 | Artykuł 2022
|
| 3 | Referat konferencyjny 2021
Agnieszka Zawadzka Grzegorz Ilgiewicz Regina Paszkiewicz| Experimental aspects of chromium etching process for the lithography mask fabrication. W: 9th International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies : proceedings of ADEPT, Podbanské, High Tatras, Slovakia, September 20-23, 2021 / [eds. D. Jandura, P. Maniaková, I. Lettrichová, J. Kováč, jr. B.m. : University of Žilina in EDIS-Publishing Centre of UZ, 2021]. s. 179-182. ISBN: 978-80-554-1806-3 |
|
| 4 | Artykuł 2021
Agnieszka Zawadzka Kornelia Indykiewicz Regina Paszkiewicz| The validation of various technological factors impact on the electron beam lithography process. Advances in Electrical and Electronic Engineering. 2021, vol. 19, nr 2, s. 186-191. ISSN: 1336-1376; 1804-3119 | | Zasoby:DOIURLSFX |  |
|
| 5 | Referat konferencyjny 2020
Agnieszka Zawadzka Kornelia Indykiewicz Regina Paszkiewicz| Numerical and experimental aspects of electron beam lithography process study for various technological factors. W: 8th International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies : proceedings of ADEPT, Nový Smokovec, High Tatras, Slovakia, September 14th-17th, 2020 / [eds. J. Kováč, jr., F. Chymo, M. Feiler, D. Jandura. B.m. : University of Žilina in EDIS-Publishing Centre of UZ, 2020]. s. 65-68. ISBN: 978-80-554-1735-6 |
|
| 6 | Rozdział w książce 2020
Agnieszka Zawadzka| Lithography technologies used in 3D electronic and photonic structures fabrication = Rodzaje litografii stosowane do wytwarzania 3D struktur elektronicznych i fotonicznych. W: Nauka, badania i doniesienia naukowe 2020 : nauki techniczne i ścisłe, część II / red. Tobiasz Wysoczański. Świebodzice : Idea Knowledge Future, 2020. s. 196-206. ISBN: 978-83-958175-2-6 | | Zasoby:URL | |
|
| 7 | Artykuł 2020
Agnieszka Zawadzka Kornelia Indykiewicz Regina Paszkiewicz| Qualitative assessment of the UV exposition process near the diffraction limits. Advances in Electrical and Electronic Engineering. 2020, vol. 18, nr 2, s. 115-121. ISSN: 1336-1376; 1804-3119 | | Zasoby:DOIURLSFX | |
|
| 8 | Artykuł 2019
Agnieszka Zawadzka Joanna Prażmowska-Czajka Kornelia Indykiewicz Regina Paszkiewicz| Wybrane aspekty wytwarzania masek fotolitograficznych na podłożach szafirowych = Selected aspects of photolithographic masks fabrication on sapphire substrates. Przegląd Elektrotechniczny. 2019, R. 95, nr 10, s. 162-165. ISSN: 0033-2097; 2449-9544 | | Zasoby:DOIURL | |
|
| 9 | Artykuł 2019
|
| 10 | Referat konferencyjny 2019
|
