Wydział Elektroniki, Fotoniki i Mikrosystemów

prof. dr hab. inż. Witold Posadowski

Email: witold.posadowski@pwr.edu.pl

Jednostka: Wydział Elektroniki, Fotoniki i Mikrosystemów » Katedra Metrologii Elektronicznej i Fotonicznej

ul. Janiszewskiego 11/17, Wrocław
bud. C-2, pok. 105B
tel. 71 320 3241


Wybrane publikacje
1
Referat konferencyjny
2023
Jarosław Domaradzki, Witold Posadowski, Milena Kiliszkiewicz, Michał Mazur, Damian Wojcieszak, Artur Wiatrowski, Malwina Sikora, Patrycja A Pokora, Ewa Mańkowska, Paulina Kapuścik, Paweł Chodasewicz, Maurycy Maziuk,
Badanie właściwości cienkich warstw AZO wytworzonych metodą rozpylania magnetronowego z dwuelementowej tarczy Zn-Al. W: XIV Konferencja Naukowa Technologia Elektronowa ELTE 2023, Ryn, 18-21 kwietnia 2023 : materiały konferencyjne. [B.m.] : Instytut Mikroelektroniki i Optoelektroniki Politechniki Warszawskiej, [2023]. s. 174-175. ISBN: 978-83-64102-05-9
Zasoby:URL
2
Referat konferencyjny
2023
Artur Wiatrowski, Witold Posadowski, Szymon D Kiełczawa, Paweł Chodasewicz, Milena Kiliszkiewicz,
Diagnostyka procesów reaktywnego rozpylania magnetronowego średniej częstotliwości. W: XIV Konferencja Naukowa Technologia Elektronowa ELTE 2023, Ryn, 18-21 kwietnia 2023 : materiały konferencyjne. [B.m.] : Instytut Mikroelektroniki i Optoelektroniki Politechniki Warszawskiej, [2023]. s. 118-119. ISBN: 978-83-64102-05-9
Zasoby:URL
3
Artykuł
2022
Michał Mazur, Agata Obstarczyk, Witold Posadowski, Jarosław Domaradzki, Szymon D Kiełczawa, Artur Wiatrowski, Damian Wojcieszak, Małgorzata Kalisz, Marcin Grobelny, Jan Szmidt,
Investigation of the microstructure, optical, electrical and nanomechanical properties of ZnOx thin films deposited by magnetron sputtering. Materials. 2022, vol. 15, nr 19, art. 6551, s. 1-18. ISSN: 1996-1944
Zasoby:DOIURLSFXImpact FactorLista FiladelfijskaLista MNiSWOpen Access
4
Artykuł
2022
Selected properties of AlxZnyO thin films prepared by reactive pulsed magnetron sputtering using a two-element Zn/Al target. Beilstein Journal of Nanotechnology. 2022, vol. 13, s. 344-354. ISSN: 2190-4286
Zasoby:DOISFXImpact FactorLista FiladelfijskaLista MNiSWOpen Access
5
Artykuł
2021
Damian Wojcieszak, Michał Mazur, Patrycja A Pokora, Adriana Wrona, Katarzyna Bilewska, Wojciech Kijaszek, Witold Posadowski, Jarosław Domaradzki,
Properties of metallic and mxide thin films based on Ti and Co prepared by magnetron sputtering from sintered targets with different Co-content. Materials. 2021, vol. 14, nr 14, art. 3797, s. 1-16. ISSN: 1996-1944
Zasoby:DOISFXImpact FactorLista FiladelfijskaLista MNiSWOpen Access
6
Artykuł
2021
Bartłomiej Wierdak, Witold Posadowski, Artur Wiatrowski,
Otrzymywanie cienkowarstwowych układów elektrochromowych na bazie tlenku wolframu metodą magnetronowego rozpylania – część I = Preparation of thin film electrochromic structures based on tungsten oxide by magnetron sputtering – part I. Elektronika (Warszawa). 2021, R. 62, nr 3, s. 28-32. ISSN: 0033-2089; 2449-9528
Zasoby:DOILista MNiSW
7
Referat konferencyjny
2019
Aneta Zięba, Sergiusz Patela, Witold Posadowski, Mateusz Gramala, Marcin Wielebski,
Ellipsometric measurement of photonic microstructures. W: 7th International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies : proceedings of ADEPT, Štrbské Pleso, High Tatras, Slovakia, June 24-27, 2019 / eds. D. Jandura [i in. B.m.] : University of Žilina in EDIS-Publishing Centre of UZ, [2019]. s. 127-130. ISBN: 978-80-554-1568-0
8
Artykuł
2019
Badanie właściwości cienkich warstw tlenków cynku otrzymywanych metodą reaktywnego impulsowego rozpylania magnetronowego = Investigation of the properties of zinc oxide thin films deposited by the reactive pulsed magnetron sputtering method. Elektronika (Warszawa). 2019, R. 60, nr 7, s. 10-13. ISSN: 0033-2089; 2449-9528
Zasoby:DOILista MNiSW
9
Artykuł
2019
Agata Obstarczyk, Witold Posadowski, Ewa Mańkowska, Marcin Grobelny,
Wpływ struktury na właściwości elektryczne oraz optyczne cienkich warstw na bazie tlenków tytanu i miedzi = Influence of the structure on the electrical and optical properties of thin films based on the titanium and copper oxides. Elektronika (Warszawa). 2019, R. 60, nr 7, s. 7-9. ISSN: 0033-2089; 2449-9528
Zasoby:DOILista MNiSW
10
Artykuł
2018
Effect of pulsed magnetron sputtering process for the deposition of thin layers of nickel and nickel oxide. Materials Science-Poland. 2018, vol. 36, nr 1, s. 69-74. ISSN: 2083-1331; 2083-134X
Zasoby:DOISFXImpact FactorLista FiladelfijskaLista MNiSWOpen Access

Wszystkie publikacje pracownika

Politechnika Wrocławska © 2024