Wydział Elektroniki, Fotoniki i Mikrosystemów

dr hab. inż. Artur Wiatrowski

E-mail: artur.wiatrowski@pwr.edu.pl

Stanowisko: Prodziekan ds. dydaktyki

Jednostka: Wydział Elektroniki, Fotoniki i Mikrosystemów » Katedra Metrologii Elektronicznej i Fotonicznej

ul. Janiszewskiego 11/17, Wrocław
bud. C-2, pok. 105B
tel. 71 320 3241 lub 71 320 4968


Wybrane publikacje
1
Artykuł
2024
Piotr Mazur, Paweł Chodasewicz,
Effect of sputtering power and oxygen partial pressure on structural and opto-electronic properties of Al-doped ZnO transparent conducting oxides. Applied Surface Science. 2024, vol. 670, art. 160601, s. 1-11. ISSN: 0169-4332; 1873-5584
Zasoby:DOISFXImpact FactorLista FiladelfijskaLista MNiSWOpen Access
2
Artykuł
2023
Jaroslav Jr Kovăč,
Study on properties of diamond-like carbon films deposited by RF ICP PECVD method for micro- and optoelectronic applications. Materials Science and Engineering. B, Advanced Functional Solid-State Materials. 2023, vol. 296, s. 1-9, art. 116691. ISSN: 0921-5107; 1873-4944
Zasoby:DOIURLSFXImpact FactorLista FiladelfijskaLista MNiSWOpen Access
3
Artykuł
2023
Ewa Mańkowska, Paweł Chodasewicz,
Reverse engineering analysis of optical properties of (Ti,Cu)Ox gradient thin film coating. Coatings. 2023, vol. 13, nr 6, art. 1012, s. 1-11. ISSN: 2079-6412
Zasoby:DOIURLSFXImpact FactorLista FiladelfijskaLista MNiSWOpen Access
4
Referat konferencyjny
2023
Malwina Sikora, Patrycja A Pokora, Ewa Mańkowska, Paulina Kapuścik, Paweł Chodasewicz, Maurycy Maziuk,
Badanie właściwości cienkich warstw AZO wytworzonych metodą rozpylania magnetronowego z dwuelementowej tarczy Zn-Al. W: XIV Konferencja Naukowa Technologia Elektronowa ELTE 2023, Ryn, 18-21 kwietnia 2023 : materiały konferencyjne. [B.m.] : Instytut Mikroelektroniki i Optoelektroniki Politechniki Warszawskiej, [2023]. s. 174-175. ISBN: 978-83-64102-05-9
Zasoby:URLOpen Access
5
Referat konferencyjny
2023
Szymon D Kiełczawa, Paweł Chodasewicz,
Diagnostyka procesów reaktywnego rozpylania magnetronowego średniej częstotliwości. W: XIV Konferencja Naukowa Technologia Elektronowa ELTE 2023, Ryn, 18-21 kwietnia 2023 : materiały konferencyjne. [B.m.] : Instytut Mikroelektroniki i Optoelektroniki Politechniki Warszawskiej, [2023]. s. 118-119. ISBN: 978-83-64102-05-9
Zasoby:URLOpen Access
6
Artykuł
2022
Szymon D Kiełczawa,
Specific method of deposition of aluminium-doped zinc oxide thin films on flexible glass substrates = Specyficzna metoda osadzania cienkich warstw tlenku cynku domieszkowanego glinem na elastycznych podłożach szklanych. Przegląd Elektrotechniczny. 2022, R. 98, nr 9, s. 247-250. ISSN: 0033-2097; 2449-9544
Zasoby:DOIURLImpact FactorLista FiladelfijskaLista MNiSWOpen Access
7
Artykuł
2022
Szymon D Kiełczawa, Małgorzata Kalisz, Marcin Grobelny, Jan Szmidt,
Investigation of the microstructure, optical, electrical and nanomechanical properties of ZnOx thin films deposited by magnetron sputtering. Materials. 2022, vol. 15, nr 19, art. 6551, s. 1-18. ISSN: 1996-1944
Zasoby:DOIURLSFXImpact FactorLista FiladelfijskaLista MNiSWOpen Access
8
Referat konferencyjny
2022
Ewa Mańkowska,
Analysis of optical properties of transparent (Ti,Cu)Ox gradient thin film. W: Optical Interference Coatings Conference (OIC) 2022 : 19-24 June 2022, Vancouver, British Columbia, Canada : proceedings. [B.m.] : Optical Society of America, 2022. paper TD.5, s. 1-2. ISBN: 978-1-957171-04-3
Zasoby:DOI
9
Artykuł
2022
Małgorzata Kalisz, Patrycja A Pokora, Ewa Mańkowska, Aneta Lubańska, Malwina Sikora,
Photocatalytic coatings based on TiOx for application on flexible glass for photovoltaic panels. Journal of Materials Engineering and Performance. 2022, vol. 31, nr 9, s. 6998-7008. ISSN: 1059-9495; 1544-1024
Zasoby:DOISFXImpact FactorLista FiladelfijskaLista MNiSWOpen Access
10
Artykuł
2022
Selected properties of AlxZnyO thin films prepared by reactive pulsed magnetron sputtering using a two-element Zn/Al target. Beilstein Journal of Nanotechnology. 2022, vol. 13, s. 344-354. ISSN: 2190-4286
Zasoby:DOISFXImpact FactorLista FiladelfijskaLista MNiSWOpen Access

Wszystkie publikacje pracownika

Politechnika Wrocławska © 2025