Dr inż. Jakub Aniulis, pracownik Katedry Teorii Pola, Układów Elektronicznych i Optoelektroniki, otrzymał główną nagrodę za najlepszą prezentację ustną, za referat o systemie R-FQM (Real-Time Filament Quality Monitor), podczas konferencji "8th International Scientific Conference: Rapid Prototyping 3D & 4D PRINTING – Metrological Problems"organizowanej przez Politechnikę Świętokrzyską w Kielcach (17-19.09.2025).

W wystąpieniu zaprezentował autorską koncepcję i architekturę prototypu R-FQM zintegrowanego z niskonakładową linią wytwarzania filamentów oraz wyniki pomiarów w, tym identyfikacji materiału, monitoringu wilgotności, detekcji defektów, oceny geometrii/jednorodności, uzupełnione o badania filamentów metalicznych i ideę digital twin.

Prezentacja spotkała się z bardzo wysoką oceną i wywołała ożywioną dyskusję wśród uczestników, w tym przedstawicieli ośrodków z Kielc, Ostrawy, Rzeszowa i AGH, podkreślając znaczenie proponowanego podejścia dla metrologii procesowej w technologiach MEX/FFF.